電子セラミック・プロセス研究会
法人会員・関係者 各位
2026年4月28日


電子セラミック ・ プロセス研究会
会長  中平 敦

第214回電子セラミック・プロセス研究会・年次総会・

一ノ瀬昇賞受賞記念式典プログラム


日 時:2026年6月27日(土)13:00 ~ 18:05 場 所:TKPガーデンシティPREMIUM品川高輪口 + Zoom オンライン(ハイブリッド開催) 参加費: 法人会員, 学生:無料 非会員:3,000円<オンライン参加者の参加費は、後日請求させていただきます>               非会員の方はオンライン担当まで事前連絡下さい。Zoom 登録リンクを送付させていただきます。

年次総会および功労賞授与式
(13:00-13:30)

特集テーマ:レアアース、レアメタル関連技術 ~ 省資源化、リサイクルに向けて ~


座長:水野 高太郎(太陽誘電(株))
2026-214-1099 「クロマトグラフィー法を中心とした都市鉱山からのレアメタル分離・回収技術の開発」
芝浦工業大学 新井 剛(13:30-14:10)
2026-214-1099 
「クロマトグラフィー法を中心とした都市鉱山からのレアメタル分離・回収技術の開発」
芝浦工業大学 新井 剛(13:30-14:10)

 都市鉱山は、電子デバイスや各種工業製品の廃棄物中に有用金属を含む重要な二次資源である。本講演では、クロマトグラフィー法を中心としたレアメタルの分離・回収技術の開発について紹介する。特に、分離材・吸着材の設計や分離挙動の評価を通じて、高選択的な金属回収の実現に向けた基礎的知見を示すとともに、電子材料分野を支える資源循環技術としての可能性と今後の展望について述べる。


2026-214-1100 「低温劣化耐性と超高靭性を有するジルコニアセラミックスの開発」
第一稀元素化学工業株式会社 高井 優行(14:10-14:50)
2026-214-1100
「低温劣化耐性と超高靭性を有するジルコニアセラミックスの開発」
第一稀元素化学工業株式会社 高井 優行(14:10-14:50)

 高い靭性を特長とするジルコニアセラミックスは、刃物や粉砕メディアなどの用途で広く使用されている。しかし、100℃程度の熱水環境下において、機械的特性が著しく低下する低温劣化が、使用環境や用途拡大における課題となっている。本講演では、この低温劣化に対して優れた耐性を有し、かつ極めて高い靭性を示すジルコニアセラミックスについて紹介する。本開発品はレアアースフリーという特長を有しており、安定供給に寄与できる点に加え、従来のジルコニアセラミックスでは適用が困難とされてきた分野への展開が期待される。


2026-214-1101 「希土類問題と蛍光体」
新潟大学大学院 戸田 健司(14:50-15:30)
2026-214-1101 
「希土類問題と蛍光体」
新潟大学大学院 戸田 健司(14:50-15:30)

 2025年後半に想定される台湾有事を巡る「存立危機事態」に関する政府答弁を契機として、中国との緊張が高まり、レアアース(希土類)などの戦略物資の供給不安が再び注目されている。このような状況から、蛍光体分野においても大きな影響が生じると考える向きは多い。
しかしながら、現在の蛍光体産業の主流は、使用量が極めて少ないLED用蛍光体である。また、赤色蛍光体については、すでにレアアースフリー化が進展している。希土類問題の本質は、むしろ重希土類の供給制約にあり、蛍光体産業への直接的な影響は限定的であると考えられる。
本稿では、蛍光体において希土類が必要とされる本質的理由を整理するとともに、今後の産業的展開について概説する。


  休 憩                                  (15:30-15:45)

2026-214-1102 「レアメタル由来の透明近赤外光反射膜(Cs0.33WO3)について」
住友金属鉱山株式会社 大上 秀晴(15:45-16:25)
2026-214-1102
「レアメタル由来の透明近赤外光反射膜(Cs0.33WO3)について」
住友金属鉱山株式会社 大上 秀晴(15:45-16:25)

 当社が開発したレアメタル由来のセシウムタングステンブロンズ Cs0.33WO3(以下、CWO)は、可視域で高い透明性を維持しつつ太陽光スペクトル中の近赤外光を選択的に吸収・反射する遮熱材料である。CWO粉末は近赤外光の吸収特性を活用し、ウィンドウ用フィルム、衣料用繊維・布地、農業用ビニールハウス等へ塗布または混練することで実用化されている。さらに近年、CWO粉末を真空成膜して得られるCWO薄膜が開発され、非導電性でありながら近赤外光の反射により基材の温度上昇を抑制できる特長を有する。本講演では、CWO粉末および薄膜のそれぞれ機能と適用事例を概説する。併せて、CWOの直接的な省資源化・リサイクルは確立されていないことを踏まえ、間接的な省資源化の可能性について検討する。


2026-214-1103 「希土類磁石の設計と最適化」
国立研究開発法人産業技術総合研究所 三宅 隆(16:25-17:05)
2026-214-1103 
「希土類磁石の設計と最適化」
国立研究開発法人産業技術総合研究所 三宅 隆(16:25-17:05)

 現代の強力永久磁石は、ネオジムやサマリウムを主成分に含む希土類磁石で、ネオジム磁石には、耐熱性向上のためディスプロシウム等の重希土類が添加されている。本講演では、電子論に基づいた希土類磁石の理解と設計の研究事例を報告する。また、データ駆動手法を活用した組成最適化とレアアースの有効活用に関する取り組みを紹介する。



  休 憩                                  (17:05-17:15)

一ノ瀬昇賞授賞セレモニー
(17:15-17:35)

一ノ瀬昇賞授賞式及び一ノ瀬昇賞選考過程報告
中平 敦  (電子セラミック・プロセス研究会会長)
今中 佳彦 (一ノ瀬昇記念賞選考委員長)    
受賞記念講演会 座長:今中 佳彦(上智大学) 【一ノ瀬昇賞受賞講演】
2026-214-1104 「圧電点火素子の開発と量産化」
株式会社富士セラミックス 高橋 弘文(17:35-18:05)
2026-214-1104 
「圧電点火素子の開発と量産化」
株式会社富士セラミックス 高橋 弘文(17:35-18:05)

 圧電正効果を利用した圧電点火素子はガスライター等に利用される代表的なデバイスであるが、現在、国内では富士セラミックスだけが唯一製造している.厳しい社会環境の変化でも継続できる組成開発技術、プロセス技術、加工技術の成果であり関わる技術を説明します。


 6月27日(土)18:10より、講演会場にて参加される方を対象として自由討論会(参加費 ¥3,000)を講演会場と同じ場所で行います。 奮ってご参加いただき討論をお続けください。多数の皆様のご参加をお待ちしています。参加を希望される方は、参加登録時に自由討論会への参加申し込みもお願いします。

第214回担当幹事:水野 高太郎(太陽誘電(株))
k-mizuno@jty.yuden.co.jp
一ノ瀬昇賞受賞記念式典担当幹事:今中 佳彦(上智大学)
imanaka2020@gmail.com
オンライン担当 : info-ecpm@elecera.org
ホームページ :   http://elecerapm.com/

<オンラインでの参加者への注意事項>  ・録画および録音は禁止とさせていただきます
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