130回電子セラミック・プロセス研究会
&日本電子材料技術協会&岡崎賞受賞講演2011年新春合同講演会

日時:     平成23年1月15日(土)    10:00-18:40

場所:     神奈川近代文学館            http://www.kanabun.or.jp

住所:     〒231-0862 横浜市中区山手町110

特集テーマ「今年期待される材料とプロセス」

座長: 山下 洋八 (東芝RC)

1. 『機能性ガラスの現状と将来』                       (10:00-10:50)

(株) AGC旭硝子 伊藤 節郎様
概要:ガラスは有史以来、様々な分野で使われ続け、実用材料の中では最も古い材料の一つであるが、今なお、エレクトロニクスやフォトニクスの先端分野で必要不可欠な材料として使われている。しかし、今後多様なニーズに適合し、社会に役立つガラスを開発していくためには、その本質を明らかにし、新しい科学と技術を構築していく必要がある。各種の機能性ガラスの現状を紹介しながら、その将来について言及する。

2. 『使用済製品からのレアメタル回収ビジネスの現状と今後の方向性』   (10:50-11:40)

(株)リサイクルワン 本田 大作様                                                   
概要:使用済製品からのレアメタル等の回収システムの構築の現状と今後あるべき回収システムのあり方について提言する。

昼  食                                                            (11:40-12:20)

座長: 山本 孝 (防衛大学校)

3. 『LTCC(低温形成セラミックス)技術の今後の展望』 (12:20-13:10)

(株) 富士通研究所 今中 佳彦様                                                  
概要:LTCC (Low Temperature Co-fired Ceramics) とは, 金, 銀, 銅などの良導電性の金属を低温で焼成可能なセラミックスと一体で同時焼成を行うことで得られる金属内部配線層を施したセラミックスのことであり, 1980年代に行われた高速コンピュータ用多層セラミック回路基板の開発に端を発している。本講演では, 銅メタライゼーションのLTCCに関して概説するとともに, LTCCの技術開発動向, ならびに将来技術としてのpost-LTCCについて言及する。

4. 『日系MLCC企業の最近の状況と今後の可能性』 (13:10-14:00)

(株)村田製作所 鷹木 洋様                                                            
概要:MLCC製造・開発における韓台中のプレゼンスが増す中、日系企業の現状と今後の展開を分析する


 

5. 『リチウムイオン二次電池電極材料用チタン酸リチウムの合成方法と特徴』 (14:00-14:50)

東邦チタニウム㈱ 堺 英樹様                                                          
概要:環境対策の必要性から、ますます加速してきた車載用LIB市場を背景に、カーボン系とは異なる長寿命・高安全性が期待されている、古くて新しい活物質LTOの歴史・特徴・合成方法等を材料メーカーの立場から紹介する。

コーヒーブレーク                                                   (随   時)

座長: 岸 弘志 (太陽誘電)

6. 『R-Fe-B系焼結磁石の最新動向』 (14:50-15:40)

TDK株式会社 増田 健様                                                             
概要: ハイブリッド自動車や電気自動車用駆動モーターには希土類を含む焼結磁石が使われています。本講演ではこの希土類焼結磁石の最近の技術動向について報告します。

7.『熱と流れの科学』                                                                     (15:40-16:30)

防衛大学校名誉教授 五十嵐 保様
概要: 日常生活において誰もが体験する物理現象は流れと熱である。気象などの自然現象から風・水害や乗り物の抵抗低減, エアコンや各種機器の冷却, 今や単位面積当たりの発熱量がフライパンを超えたコンピュータの冷却等がある。 この身近な問題について、研究の動機とその結果を述べる 』

座長: 藤津 悟 (東工大)

8. 「岡崎賞受賞紹介と表彰式」                                                    (16:30-18:40)

『チタン酸ジルコン酸鉛ゾルゲル溶液の作成とその応用』
イノステック(株)           河朝 雄様
『酸化物配向薄膜の配向制御とその応用』
東工大                        篠崎 和夫様
『積層セラミックスコンデンサの希土類添加による容量温度特性の改善』
TDK(株)                    佐藤 茂樹様
『大変位・高発生力積層圧電アクチュエ-タの開発・実用化』
(株)村田製作所          林 宏一、郡田 宗彦様

岡崎清賞&岡崎清功労賞表彰式

なお研究会終了後、Artisan (アルティザン) (住所:神奈川県横浜市中区元町1-31 ラ・スピーガ元町BF1、 電話:045-228-7433)で19:00より自由討論会を開催いたします。参加費は3,000円です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。

 

 今後の予定
 過去の研究会
 リンク