平成16年6月11日
電子セラミック・プロセス研究会
会員各位
電子セラミック・プロセス研究会
会長 坂野 久夫
第91回電子セラミック・プロセス研究会プログラム
日時 平成16年7月10日(土) 13:00 より
場所 湘南工科大学・東京キャンパス
東京都港区三田3-7-18 糸山タワー7階 (TEL 03-5441-8594)
評議員会(評議員、役員のみ) (12:00-13:00)
特集テーマ；「最新の積層デバイス」
座長：山本 孝（防衛大学）
16-91-521 積層セラミックコンデンサの信頼性と残留応力
中野 幸恵 （TDK（株）） (13:00-13:40)
16-91-522 大容量積層セラミックコンデンサの開発
和田 信之 （（株）村田製作所） (13:40-14:20)
16-91-523 積層インダクタの最近の進展と技術動向
桜井 信雄 （太陽誘電（株）） (14:20-15:00)
コーヒーブレイク (15:00-15:15)
座長：山下 洋八（（株）東芝）
16-91-524 Pr系積層チップバリスタの開発
松岡 大（TDK（株)） (15:15-15:55)
16-91-525 BaTiO3系半導体（PTCサーミスタ）の積層化
新見 秀明（（株）村田製作所） (15:55-16:35)
16-91-526 Ag内部電極積層圧電トランス
奥田 和弘（松下電子部品（株） (16:35-17:15)
なお17:20より、同ビル1階レストラン（イルフィーロ）において懇親会を開きます。会費は1000円です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。
今回担当幹事 山本 孝 （防衛大学）