平成16年6月11日

電子セラミック・プロセス研究会

会員各位

                               電子セラミック・プロセス研究会

会長 坂野 久夫

 

91回電子セラミック・プロセス研究会プログラム

 

日時 平成16年7月10日(土) 13:00 より

場所 湘南工科大学・東京キャンパス

   東京都港区三田3-7-18 糸山タワー7階 (TEL 03-5441-8594)

 

評議員会(評議員、役員のみ)                                      (12:00-13:00)

 

                                

特集テーマ;「最新の積層デバイス」

 

座長:山本 孝(防衛大学)

16-91-521  積層セラミックコンデンサの信頼性と残留応力                    

中野 幸恵 (TDK(株))                              (13:00-13:40)

 

16-91-522  大容量積層セラミックコンデンサの開発

和田 信之 ((株)村田製作所)             (13:40-14:20)

16-91-523  積層インダクタの最近の進展と技術動向

桜井 信雄 (太陽誘電(株))             (14:20-15:00)

 

コーヒーブレイク                                                  (15:00-15:15)

 

座長:山下 洋八(株東芝)

16-91-524  Pr系積層チップバリスタの開発

松岡 大(TDK(株))                  (15:15-15:55)

16-91-525  BaTiO3系半導体(PTCサーミスタ)の積層化

新見 秀明((株)村田製作所)             (15:55-16:35)

16-91-526  Ag内部電極積層圧電トランス

           奥田 和弘(松下電子部品(株)             (16:35-17:15)

 

 なお17:20より、同ビル1階レストラン(イルフィーロ)において懇親会を開きます。会費は1000です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。

                                       今回担当幹事 山本 孝 防衛大学

 今後の予定
 過去の研究会
 リンク