2014年4月17日
電子セラミック・プロセス研究会

会員各位


146回 電子セラミック・プロセス研究会

電子セラミック・プロセス研究会
会長 林 卓

日時:      平成26年5月17日(土) 13:15より(通常より開始時間が15分遅くなっています)
場所:      横浜市泉区民文化センター テアトルフォンテ
〒245-0016 横浜市泉区和泉町3511-9
アクセスマップ: http://theatre-fonte.com/?page_id=17

参加費    法人会員および学生:無料
上記以外 大学・公研:2,000円、企業:5,000円

 

評議員会 (評議員、役員のみ)                               (12:00~13:00)

 

特集テーマ:「セラミックス成形技術の新展開」


座長:木村 雅彦(株式会社村田製作所)

26-146-813            コロイドプロセスによるセラミックス成形                                                (13:15~14:00)
打越 哲郎 (物質・材料研究機構)

26-146-814            粉末焼結積層造型技術によるセラミックス積層造形                               (14:00~14:45)
関 信吾 (株式会社アスペクト)

 

ブレイク                                                (14:45~15:00)

 

座長:山本 孝(防衛大学校)

26-146-815            厚膜積層型ジルコニアNOXセンサの技術と応用                               (15:00~15:45)
小澤 修一 (日本ガイシ株式会社)

26-146-816            MLCCのシート成形技術                                                                    (15:45~16:30)
吉川 宣弘 (株式会社村田製作所)

 

総会                                                 (16:30~16:50)

 

なお17:00より、笑笑(いずみ中央駅前店:駅ビルの中です。)において自由討論会を開催予定です。会費は2,000円です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。多数の方の参加をお待ちしております

第146回担当幹事 木村 雅彦(株式会社村田製作所)

 

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