2014年4月17日
電子セラミック・プロセス研究会

会員各位

第146回　電子セラミック・プロセス研究会

電子セラミック・プロセス研究会
会長 林 卓

日時：      平成26年5月17日（土）　13:15より(通常より開始時間が15分遅くなっています)
場所：      横浜市泉区民文化センター テアトルフォンテ
〒245-0016 横浜市泉区和泉町3511-9
アクセスマップ: http://theatre-fonte.com/?page_id=17

参加費    法人会員および学生：無料
上記以外　大学・公研：2,000円、企業：5,000円

評議員会　（評議員、役員のみ）                               (12:00～13:00)

特集テーマ：「セラミックス成形技術の新展開」

座長：木村　雅彦（株式会社村田製作所）

26-146-813            コロイドプロセスによるセラミックス成形                                                (13:15～14:00)
打越　哲郎　(物質・材料研究機構)

26-146-814            粉末焼結積層造型技術によるセラミックス積層造形                               (14:00～14:45)
関　信吾　(株式会社アスペクト)

ブレイク                                                （14:45～15:00）

座長：山本　孝（防衛大学校）

26-146-815            厚膜積層型ジルコニアNOXセンサの技術と応用                               (15:00～15:45)
小澤　修一　(日本ガイシ株式会社）

26-146-816            MLCCのシート成形技術                                                                    (15:45～16:30)
吉川　宣弘　(株式会社村田製作所)

総会                                                 (16:30～16:50)

なお17:00より、笑笑（いずみ中央駅前店：駅ビルの中です。）において自由討論会を開催予定です。会費は2,000円です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。多数の方の参加をお待ちしております

第146回担当幹事 木村　雅彦（株式会社村田製作所）