電子セラミック・プロセス研究会
法人会員・関係者 各位
法人会員・関係者 各位
令和3年8月30日
電子セラミック ・ プロセス研究会
会長 山本 孝
第181回電子セラミック・プロセス研究会プログラム
（15:00-15:30）
山梨大学 大学院総合研究部 和田 智志
TDK株式会社 松岡 大
東京工業大学 物質理工学院 材料系 舟窪 浩 （15:30-16:１0）
HfO2基の強誘電体は2011年に発表され、10 nm以下でも安定した強誘電性を発現することから、強誘電体メモリや負性容量キャパシタとして、半導体の研究の主役になってきている。本講演では、エピタキシャル膜を用いた基礎特性把握の研究を紹介すると共に、圧電体膜としての可能性を紹介する。
TDK株式会社 梅田 裕二 （16:10-16:50）
近年、ハード・ソフト両面におけるコンピュータ関連技術の進歩、またデータベースの整備により、計算科学や情報科学を材料開発に適用する取り組みが盛んになってきています。材料開発の大幅な効率化が期待されており、また様々な材料への適用事例が報告されています。本講演では誘電体材料の探索に適用した例についてご紹介いたします。
第181回担当幹事：佐藤 祐介（TDK株式会社）Yusuke.Sato@tdk.com
オンライン担当 ： info-ecpm@elecera.org
ホームページ ： http://elecerapm.com/