平成21年２月５日
電子セラミック・プロセス研究会

第119回電子セラミック・プロセス研究会開催のお知らせ

日時　平成21年3月13日(金)　13:00 より
場所　村田製作所　横浜事業所
横浜市緑区白山1-18-1　
地図：http://www.murata.co.jp/corporate/network/japan/yokohama.html#map

評議員会(評議員、役員のみ)　GERMAN　CENTREにて　　　　　　　　   　　　　　　　  (12:00-13:00)　
横浜市緑区白山1-18-2(村田製作所の隣)　

特集テーマ；「薄膜材料・プロセス技術の最近の動向と応用展開」

座長：和田　信之（（株）村田製作所）
20-119-681 新規エレクトロニクス材料の開発とその巨大物性の発現機構
解明に関する基礎的研究
田畑　仁（東京大学）　　　　　　　　　　　　 　　　  　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　(13:00-13:40)

20-119-682 MOCVD法を用いた高品質誘電体薄膜の作製と物性に関する研究
舟窪　浩（東京工業大学）　　　　　 　　　　　　　    　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 (13:40-14:20)

コーヒーブレイク                                                　　　　　　　　　　　　　　　　   (14:20-14:40)

座長：真岩　宏司（湘南工科大学）

20-119-683 強誘電体PZT薄膜におけるd15圧電せん断モードの評価 
青木剛（(株）富士通研究所）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　(14:40-15:20)

20-119-684 誘電体薄膜キャパシター技術 　
鈴木　利昌（太陽誘電（株））　　　　　　　　   　 　 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 (15:20-16:00)

20-119-685 高濃度ドーピングによるZnO透明導電膜の高耐湿化と物性制御
深堀　奏子（（株）村田製作所）　　　　　 　　　　  　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 (16:00-16:40)

なお研究会終了後、　GERMAN　CENTREにて自由討論会を開きます。奮ってご参加いただき、引き続き討論をお続け下さい。