平成21年2月5日
電子セラミック・プロセス研究会

第119回電子セラミック・プロセス研究会開催のお知らせ

日時 平成21年3月13日(金) 13:00 より
場所 村田製作所 横浜事業所
横浜市緑区白山1-18-1 
地図:http://www.murata.co.jp/corporate/network/japan/yokohama.html#map

評議員会(評議員、役員のみ) GERMAN CENTREにて                    (12:00-13:00) 
横浜市緑区白山1-18-2(村田製作所の隣) 

特集テーマ;「薄膜材料・プロセス技術の最近の動向と応用展開」

座長:和田 信之((株)村田製作所)
20-119-681 新規エレクトロニクス材料の開発とその巨大物性の発現機構
解明に関する基礎的研究
田畑 仁(東京大学)                                         (13:00-13:40)

20-119-682 MOCVD法を用いた高品質誘電体薄膜の作製と物性に関する研究
舟窪 浩(東京工業大学)                                       (13:40-14:20)

コーヒーブレイク                                                                   (14:20-14:40)

座長:真岩 宏司(湘南工科大学)

20-119-683 強誘電体PZT薄膜におけるd15圧電せん断モードの評価 
青木剛((株)富士通研究所)                   (14:40-15:20)

20-119-684 誘電体薄膜キャパシター技術  
鈴木 利昌(太陽誘電(株))                                      (15:20-16:00)

20-119-685 高濃度ドーピングによるZnO透明導電膜の高耐湿化と物性制御
深堀 奏子((株)村田製作所)                                    (16:00-16:40)

なお研究会終了後、 GERMAN CENTREにて自由討論会を開きます。奮ってご参加いただき、引き続き討論をお続け下さい。                   

                   今回担当幹事 和田 信之((株)村田製作所)
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