平成16年8月10日

電子セラミック・プロセス研究会

会員各位

                               電子セラミック・プロセス研究会

会長 坂野 久夫

 

92回電子セラミック・プロセス研究会開催のお知らせ

 

日時 平成16年9月11日(土) 13:00 より

場所 湘南工科大学・東京キャンパス

   東京都港区三田3-7-18 糸山タワー7階

 

評議員会(評議員、役員のみ)                                     (12:00-13:00)

 

特集テーマ;「マイクロテクノロジーとその応用」

 

座長:岸 弘志(太陽誘電(株))

16-92-527  連続成膜技術とフリップデバイス                    (13:00-13:45)

菅原 英州 (NECトーキン(株))

 

16-92-528  AD法によるPLZTの生成               (13:45-14:30)

           中田 正文(NEC基礎研究所)

 

16-92-529  スクリーン印刷法によるシリコン基板上へのBa(Ti,Zr)O3厚膜マイクロアクチュエータ

二口 友昭 (富山県工業技術センター)                (14:30-15:15)

 

コーヒーブレイク                                                 (15:15-15:25)

 

座長:岩田 伸一NECトーキン

16-92-530        マイクロ・ナノマシニングによるMEMS

—マイクロマシニングとナノの融合—

江刺 正喜(東北大学未来科学技術共同研究センター)  (15:25-16:10)

 

16-92-531  エアロゾルデポジション(AD)法による圧電膜の形成と応用

明渡 純(産業技術総合研究所)                        (16:10-16:55)

 

なお17:00より、同ビル1階レストラン(イルフィーロ)において懇親会を開きます。会費は1000です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。

                                    今回担当幹事 岩田 伸一NECトーキン(株)

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