平成16年8月10日
電子セラミック・プロセス研究会
会員各位
電子セラミック・プロセス研究会
会長 坂野 久夫
第92回電子セラミック・プロセス研究会開催のお知らせ
日時 平成16年9月11日(土) 13:00 より
場所 湘南工科大学・東京キャンパス
東京都港区三田3-7-18 糸山タワー7階
評議員会(評議員、役員のみ) (12:00-13:00)
特集テーマ；「マイクロテクノロジーとその応用」
座長：岸 弘志（太陽誘電（株））
16-92-527 連続成膜技術とフリップデバイス (13:00-13:45)
菅原 英州 （NECトーキン（株））
16-92-528 AD法によるPLZTの生成 (13:45-14:30)
中田 正文（NEC基礎研究所）
16-92-529 スクリーン印刷法によるシリコン基板上へのBa(Ti,Zr)O3厚膜マイクロアクチュエータ
二口 友昭 （富山県工業技術センター） (14:30-15:15)
コーヒーブレイク (15:15-15:25)
座長：岩田 伸一（NECトーキン）
16-92-530 マイクロ・ナノマシニングによるMEMS
—マイクロマシニングとナノの融合—
江刺 正喜（東北大学未来科学技術共同研究センター） (15:25-16:10)
16-92-531 エアロゾルデポジション（AD）法による圧電膜の形成と応用
明渡 純（産業技術総合研究所） (16:10-16:55)
なお17:00より、同ビル1階レストラン（イルフィーロ）において懇親会を開きます。会費は1000円です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。
今回担当幹事 岩田 伸一（NECトーキン（株））