平成15年8月27日

電子セラミック・プロセス研究会

会員各位

                               電子セラミック・プロセス研究会

会長 坂野 久夫

 

86回電子セラミック・プロセス研究会開催のお知らせ

 

日時 平成15年9月27日(土) 13:00 より

場所 湘南工科大学・東京キャンパス

   東京都港区三田3-7-18 糸山タワー7階 (TEL 03-5441-8594)

 

評議員会(評議員、役員のみ)                                     (12:00-13:00)

 

特集テーマ;「SiP(System In Package)とLEDに関する周辺の最新基板技術」

 

座長:岸 弘志(太陽誘電(株))

15-86-495  1.ディスコの薄ウエーハグラインディング/ダイシング

       増地 純郎((株)ディスコ)          

2.半導体パッケージへの受動部品内蔵技術を中心としたSiPコンソーシアムへの取り組み

川口 均(SiPコンソーシアム・住友ベークライト(株))(13:00-13:45)

 

15-86-496  EPI用サファイヤ基板の表面特性について                 

        高田 岳志(古河機械金属(株))              (13:45-14:30)

15-86-497  無鉛圧電セラミックス

           安藤 陽((株)村田製作所)              (14:30-15:15)

 

コーヒーブレイク                                                (15:15-15:30)

 

座長:杉原 淳湘南工科大学

15-86-498 Funtional Oxide,TiO2 in defect chemistry(仮題)

      J.ノボトニー (ニューサウス・ウエールズ大学)     (15:30-16:15)

15-86-499  汎用プリント配線板へのキャパシタの印刷形成(実装行程の省略)

           遠藤 修((株)コバヤシ・佐藤 滋(横浜抵抗器)   (16:15-17:00)

 

なお17:00より、同ビル1階レストラン(イルフィーロ)において懇親会を開きます。会費は1000です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。

 

                                     今回担当幹事 杉原 淳湘南工科大学

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