電子セラミック・プロセス研究会
法人会員・関係者 各位
法人会員・関係者 各位
令和6年2月5日
電子セラミック ・ プロセス研究会
会長 山本 孝
第199回電子セラミック・プロセス研究会プログラム
特集テーマ：「圧電薄膜の材料・プロセス技術とデバイス応用」
産業技術総合研究所 センシングシステム研究センター
上原 雅人（13:00-13:40）
AlNにScを固溶させたScAlNは優れた圧電性能をもち、5G用高周波フィルタとして利用されている。最近では、強誘電性を持つことも明らかになっている。講演では、AlNやGaN基の複合窒化物圧電膜の研究について紹介する。
近畿大学 生物理工学部 医用工学科
西川 博昭（13:40-14:20）
代表的な圧電体はPb(Zr,Ti)O3など脆性材料である酸化物セラミックスが多く、壊れずにフレキシブル化するには工夫が必要である。本講演では、酸化物セラミックス圧電体の単結晶薄膜をフレキシブル化する技術について紹介する。さらに、皮膚表面に装着することで多様な生体情報を取得可能なウェアラブルデバイス化の展望を述べる。
静岡大学大学院 総合科学技術研究科工学専攻
脇谷 尚樹（14:20-15:00）
真空チャンバー内に電磁石を搭載したダイナミックオーロラPLDでは、成膜時に印加する磁場の強度（200G程度の低磁場と2000G程度の中磁場）で２つの効果が生じる。低磁場の印加ではプルームの収束による成膜速度の向上が、中磁場の印加ではプラズマ密度の増加による自発的な相分離が期待される。本発表では、ペロブスカイト構造酸化物薄膜のエピタキシャル成長の様式と格子定数のミスマッチの関係を述べる。
休 憩 （15:00-15:20）
パナソニック インダストリー株式会社 技術本部
水原 健介（15:20-16:00）
圧電MEMSアクチュエータは、他のMEMSアクチュエータに比べて、小型・高出力・低消費電力の特徴を有しており、様々な機器への応用が期待されている。その中で、私たちは近年注目を集めるXRデバイスへの応用展開を目論み、普及への課題である大画面・高解像度化を実現するためキーデバイスである圧電MEMSミラーの開発を進めている。本講演では、圧電薄膜材料の高性能化に関する技術とMEMSミラー応用に向けたデバイス設計技術について紹介する。
兵庫県立大学大学院工学研究科 電子情報工学専攻
神田 健介（16:00-16:40）
兵庫県立大学における圧電MEMS研究に関して、特に振動発電素子について紹介する。スパッタによるPZT薄膜の厚膜化や、シリコンの3次元加工による振動型MEMSハーベスタの高出力化についての取り組み、風や雨滴などの環境エネルギ利用を指向した素子開発について紹介する。
株式会社村田製作所 技術・事業開発本部 事業インキュベーションセンター（ピエクレックス社取締役CTO）
安藤 正道（16:40-17:20）
携帯電話基地局向けとして誘電体多重モードフィルタを世界で初めて実用化し事業展開した筆者が、圧電性ポリ乳酸の繊維生地の電気的抗菌特性を見出し、これを社内ベンチャーとして起業するまでのストーリーを紹介する。
17:30より、自由討論会（参加費 ¥3,000）を串Dining 響（https://hibiki0829.foodre.jp）, 研究会会場から徒歩約10分、京阪電鉄 西三荘駅まで徒歩1分）にて行います。 奮ってご参加いただき討論をお続けください。多数の皆様のご参加をお待ちしています。
第199回担当幹事：パナソニック インダストリー（株） 張替 貴聖
harigai.takakiyo@jp.panasonic.com
harigai.takakiyo@jp.panasonic.com
ホームページ ： http://elecerapm.com/
＜当日の会場案内＞
