平成16年2月12日
電子セラミック・プロセス研究会
会員各位
電子セラミック・プロセス研究会
会長 坂野 久夫
第89回電子セラミック・プロセス研究会開催のお知らせ
日時 平成16年3月6日(土) 13:00 より
場所 湘南工科大学・東京キャンパス
東京都港区三田3-7-18 糸山タワー7階 (TEL 03-5441-8594)
評議員会(評議員、役員のみ) (12:00-13:00)
特集テーマ；「最新の微細加工技術と評価」
座長：藤津 悟（湘南工科大学）
15-89-511 ＬＳＩ用マスクの現状と技術課題について (13:00-13:40)
竹花 洋一 （ＨＯＹＡ株式会社エレクトロニクス開発センター）
15-89-512 フェムト秒シングルパルス干渉露光法によるナノ加工と光学ディバイスへの応用
河村 賢一(1), 平野 正浩(1), 細野 秀雄(1,2)
（1独立行政法人科学技術振興機構細野透明電子活性プロジェクト）
（2東京工業大学 応用セラミックス研究所） (13:40-14:20)
15-89-513 酸化物ガラスの微細加工とデバイス応用
西井 準治 （産業技術総合研究所関西センター） (14:20-15:00)
コーヒーブレイク (15:00-15:30)
座長：林 卓（湘南工科大学）
15-89-514 走査型プローブ顕微鏡を用いた強誘電体薄膜の電界誘起歪測定
真岩 宏司 （湘南工科大学） (15:30-16:10)
15-89-515 インクジェット法によるSi基板上へのPZTエピタキシャル薄膜の作製
岩下 節也 （セイコーエプソン株式会社，テクノロジープラットフォーム研究所） (16:10-16:50)
なお17:00より、同ビル1階レストラン（イルフィーロ）において懇親会を開きます。会費は1000円です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。
今回担当幹事 藤津 悟（湘南工科大学）