110回電子セラミック・プロセス研究会プログラム

 

日時 平成19年9月22日(土) 13:00 より

場所 湘南工科大学・東京キャンパス

   東京都港区三田3-7-18 糸山タワー7階

 

評議員会(評議員、役員のみ)                                          (12:00-13:00)

                                

特集テーマ;「セラミックプロセス技術の新展開」

 

座長:真岩 宏司(湘南工科大学)

19-110-629  マイクログラビア法による機能性フィルムの連続製膜

        落合 博((株)ラボ)                 13:00-13:45)

                  

19-110-630  インクジェット法によるチタン酸バリウム系厚膜の作製

        坂井 雄一(富山県工業技術センター)          (13:45-14:30)

 

19-110-631  高いキュリー温度を示すチタン酸バリウム系無鉛圧電セラミックスの開発

楠本 慶二(産業技術研究所)              (14:30-15:15)

 

コーヒーブレイク                                                 (15:15-15:30)

 

座長:岸 弘志(太陽誘電(株))

19-110-632  SPS焼結によるチタン酸ジルコン酸バリウムの作製と特性

      真岩 宏司(湘南工科大学)                (15:30-16:15)

 

19-110-633  水熱合成法による微細高結晶チタン酸バリウムの開発

大釜 信治(堺化学工業�梶j                (16:15-17:00)

 

     

 

なお17:00より、同ビル1階レストラン(イルフィーロ)において懇親会を開きます。会費は1000円です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。

                                今回担当幹事 真岩 宏司(湘南工科大学)

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