第110回電子セラミック・プロセス研究会プログラム

日時　平成19年9月22日(土)　13:00 より

場所　湘南工科大学・東京キャンパス

　　　東京都港区三田3-7-18　糸山タワー7階

評議員会(評議員、役員のみ)                                     　　　　　(12:00-13:00)

特集テーマ；「セラミックプロセス技術の新展開」

座長：真岩　宏司（湘南工科大学）

19-110-629  マイクログラビア法による機能性フィルムの連続製膜

    　　　　落合　博（(株)ラボ）　　　　　　　　　　　　　　　　　（13:00-13:45）

19-110-630  インクジェット法によるチタン酸バリウム系厚膜の作製

   　　　　 坂井　雄一（富山県工業技術センター）　　　　　　　　　 (13:45-14:30)

19-110-631  高いキュリー温度を示すチタン酸バリウム系無鉛圧電セラミックスの開発

楠本　慶二（産業技術研究所）　　　　　　　　　　　　　 (14:30-15:15)

コーヒーブレイク                      　                 　        (15:15-15:30)

座長：岸　弘志（太陽誘電（株））

19-110-632  SPS焼結によるチタン酸ジルコン酸バリウムの作製と特性

　　　　　　真岩　宏司（湘南工科大学）　　　　　　　　　　　　　　　 (15:30-16:15)

19-110-633  水熱合成法による微細高結晶チタン酸バリウムの開発

大釜　信治（堺化学工業�梶j　　　　　　　　　　　　 　  (16:15-17:00)

なお17:00より、同ビル1階レストラン（イルフィーロ）において懇親会を開きます。会費は1000円です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。

　                     　　　　　　　　　 今回担当幹事　真岩　宏司（湘南工科大学）