平成28年 4月1日
電子セラミック・プロセス研究会
 会員 各位
電子セラミック・プロセス研究会
会長 山本 孝

第156回電子セラミック・プロセス研究会プログラム


日時:平成28年5月21日(土)12:30より 場所: 大阪府立大学 なんばキャンパス(I-siteなんば) 〒556-0012 大阪市浪速区敷津東2丁目1番41号 南海なんば第1ビル2・3階
(南海電鉄「なんば駅(中央出口)」徒歩12分、地下鉄御堂筋線「なんば駅(5号出口)」徒歩15分、地下鉄御堂筋線・四つ橋線「大国町駅(1番出口)」徒歩7分、地下鉄堺筋線「恵美須町駅(1-B出口)」徒歩7分、南海電鉄高野線「今宮戎駅」徒歩6分)
(南海電鉄「なんば駅(中央出口)」徒歩12分、地下鉄御堂筋線「なんば駅(5号出口)」徒歩15分、地下鉄御堂筋線・四つ橋線「大国町駅(1番出口)」徒歩7分、地下鉄堺筋線「恵美須町駅(1-B出口)」徒歩7分、南海電鉄高野線「今宮戎駅」徒歩6分)
共催:大阪府立大学金属系新素材研究センター 参加費 法人会員、学生:無料     上記以外 大学・公研:2,000 円、企業:5,000 円
評議員会(評議員、役員のみ)
(11:40-12:30)

特集テーマ:「機能性材料に関する研究開発動向―関西発の企業を中心に」


座長: 山本 孝(防衛大学校 名誉教授)
28-156-872   「BaTiO3への添加元素の置換サイトとその応用」(12:30-13:10)
(株)村田製作所 新見 秀明
28-156-872(12:30-13:10)
「BaTiO3への置換サイトとその応用」 (株)村田製作所 新見 秀明

28-156-873   「ハイドロタルサイトの形状制御による新用途展開」(13:10-13:50)
堺化学工業(株) 小泉 寿夫
28-156-873(13:10-13:50)
「ハイドロタルサイトの
形状制御による新用途展開」
 堺化学工業(株) 小泉 寿夫

(13:50-14:10)休憩 ― コーヒーブレイク ―

座長: 中平 敦 (大阪府立大学)
28-156-874   「Hansen Dispersibility Parameterを用いた分散・凝集挙動の評価と予測」
武田コロイドテクノ・コンサルティング(株) 武田 真一(14:10-14:50)
28-156-874(14:10-14:50)
「Hansen Dispersibility Parameterを用いた分散・凝集挙動の評価と予測」 武田コロイドテクノ・コンサルティング
(株) 武田 真一

28-156-875   「セラミックス射出成形の圧電素子への適用」(14:50 -15:30)
㈱宮川化成 阿野 清, 防衛大名誉教授 山本 孝
28-156-875(14:50 -15:30)
「射出成形プロセスを
圧電セラミックス素子」
㈱宮川化成 阿野 清,
防衛大名誉教授 山本 孝

28-156-876   「機能性ナノ材料による事業展開と今後の展望」(15:30-16:10)
株式会社アイテック 神澤 恒毅, 飯田 勝康
28-156-876(15:30-16:10)
「機能性ナノ材料による
事業展開と今後の展望」
株式会社アイテック 神澤 恒毅, 飯田 勝康

28-156-877   「解る現象論的熱力学による強誘電体特性予測とデバイス特性への応用」(16:10-16:50)
防衛大名誉教授 山本 孝
28-156-877(16:10-16:50)
「解る現象論的熱力学による強誘電体特性予測とデバイス特性への応用」 防衛大名誉教授 山本 孝

(17:00-17:40)プロセス研究会年次総会及び電子セラミック・プロセス研究会功労賞授与式
(17:00-17:40)
プロセス研究会年次総会及び電子セラ
ミック・プロセス研究会功労賞授与式

 引き続き18:00より、自由討論会(参加費 ¥3,000 円)を行います。多数の方の参加をお待ちしています。
第156回担当幹事:中平 敦(大阪府立大学) nakahira@mtr.osakafu-u.ac.jp
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