平成23年9月1日


電子セラミック・プロセス研究会
会員各位


電子セラミック・プロセス研究会
会長 林 卓

133回 電子セラミック・プロセス研究会プログラム

日時 平成23年10月1日(土) 13:00 より
場所 横浜市技能文化会館
住所 〒231-8575 横浜市中区万代町2丁目4番地7

評議員会 (評議員、役員のみ)                                                                         (12:00-13:00)

特集テーマ;「スペシャルゲストトークと電子セラミックスの分散テクノロジー最前線」

座長:上山 竜祐 (大研化学製造販売)

23-133-730          微小ビーズ対応ミルによるナノ分散テクノロジー最前線   (13:00-13:45)
院去 貢 (寿工業)     
                                                         
23-133-731          セラミックス粉体微細化へのジルコニアビーズによる粉砕・分散技術 (13:45-14:30)
大西 宏司 (ニッカトー) 
                                                                    
23-133-732          湿式微粒化装置・スターバーストによる電子材料の微粒化  (14:30-15:15)
北村 浩樹 (スギノマシン)
    
                                              
座長:山本 孝 (防衛大学)

23-133-733          分散とレオロジー最前線 (15:15-16:00)
上田 隆宣 (日本ペイント)                                                   

23-133-734          『スペシャルゲストによる招待講演』 (16:00-17:00)
セラミックス分散技術とナノ構造解析
藤本 正之 (YAGEO)                                                         

 

※ 会場の都合によりコーヒーブレイクは各自で適宜にお取りください。
なお17:30より、「野菜とハーブのNew Style ダイニングバー MSC メロウ スペクトラ カフェ」
(〒231-0046 神奈川県横浜市中区末広町2-3-14 名越ビル2F) において自由討論会を開きます。
会費は3,000円です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。

今回担当幹事 上山 竜祐 (大研化学製造販売(株))

 

 今後の予定
 過去の研究会
 リンク