平成18年2月24日

電子セラミック・プロセス研究会

会員各位

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　            電子セラミック・プロセス研究会

会長　坂野　久夫

第101回電子セラミック・プロセス研究会プログラム

日時　平成18年3月25日(土)　13:00 より

場所　東京理科大学・理窓会館（３Ｆ）会議室

　　　〒162-0825 東京都新宿区神楽坂2-13-1（末よしビル）

評議員会(評議員、役員のみ)                                      (12:00-13:00)

特集テーマ；「ＭＥＭＳ材料とその応用」

座長： 竹中　正（東京理科大学）

17-101-579 （総論）MEMS材料とその応用     　　　　                

神野 伊策（京都大学）　　　　　　　　　　           　(13:00-13:45)

17-101-580  HDD用圧電アクチュエータ

近藤 正雄（（株）富士通研究所）

　     　　　　　　　　　　　　                     　(13:45-14:30)

17-101-581  RF MEMSの動向と応用デバイス例

小林 真司（（株）村田製作所）                    　　　(14:30-15:15)

コーヒーブレイク                                                  (15:15-15:30)

座長：林　　卓（湘南工科大学）

17-101-582  新規強誘電材料PZTN薄膜の開発および圧電薄膜MEMSの可能性

樋口　天光（セイコーエプソン（株））　　　　　　　　　 (15:30-16:15)

17-101-583  MEMS用圧電体膜の作製とその応用

飯島　高志（（独）産業技術総合研究所）　　　　         (16:15-17:00)

なお研究会終了後、同ビル２階 理窓会倶楽部・会議室において懇親会を開きます。会費は1,000円です。奮ってご参加いただき討論をお続けください。

　                         　　　　　　　今回担当幹事　竹中　正（東京理科大学）