平成17年7月1日

電子セラミック・プロセス研究会

会員各位

                               電子セラミック・プロセス研究会

会長 坂野 久夫

 

97回電子セラミック・プロセス研究会プログラム

 

日時 平成17年7月30日(土) 13:00 より

場所 湘南工科大学・東京キャンパス

   東京都港区三田3-7-18 糸山タワー7階

 

評議員会(評議員、役員のみ)                                      (12:00-13:00)

 

                                

特集テーマ;「誘電体薄膜・結晶の新展開」

 

座長: 林 卓(湘南工科大学)

17-97-555  強誘電体薄膜の水熱処理による低温作製と評価                    

奥山 雅則 (大阪大学)                 (13:00-13:45)

 

17-97-556  BST薄膜へのドーピング効果とマイクロ波特性

栗原 和明((株)富士通研究所)             (13:45-14:30)

17-97-557  PLD法の新展開:オーロラPLDとダブルレーザーPLD装置の開発

脇谷 尚樹(東京工業大学)                   (14:30-15:15)

 

コーヒーブレイク                                                  (15:10-15:30)

 

座長:真岩 宏司(湘南工科大学)

17-97-558  圧電気の一世紀(水晶の発見〜MEMSアクチュエータまで)

秋山 善一((株)リコー)               (15:30-16:15)

 

17-97-559  高周波デバイス応用のための高誘電体薄膜キャパシタ技術

鈴木 利昌(太陽誘電(株))              (16:15-17:00)

 

なお、今回は会場の都合により懇親会はありません。講演会終了後、お飲物をご用意しております(無料)。

                                    今回担当幹事 真岩 宏司(湘南工科大学)

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