平成17年7月1日

電子セラミック・プロセス研究会

会員各位

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　            電子セラミック・プロセス研究会

会長　坂野　久夫

第97回電子セラミック・プロセス研究会プログラム

日時　平成17年7月30日(土)　13:00 より

場所　湘南工科大学・東京キャンパス

　　　東京都港区三田3-7-18　糸山タワー7階

評議員会(評議員、役員のみ)                                      (12:00-13:00)

特集テーマ；「誘電体薄膜・結晶の新展開」

座長： 林　卓（湘南工科大学）

17-97-555  強誘電体薄膜の水熱処理による低温作製と評価　　　　                

奥山　雅則　（大阪大学）  　　　　　　　　　　　　　　 (13:00-13:45)

17-97-556  BST薄膜へのドーピング効果とマイクロ波特性

栗原　和明（（株）富士通研究所）　　　　　　　　　　　  (13:45-14:30)

17-97-557  PLD法の新展開：オーロラPLDとダブルレーザーPLD装置の開発

脇谷　尚樹（東京工業大学）　　　　　　　      　　  　 (14:30-15:15)

コーヒーブレイク                                                  (15:10-15:30)

座長：真岩　宏司（湘南工科大学）

17-97-558  圧電気の一世紀（水晶の発見〜MEMSアクチュエータまで）

秋山　善一（（株）リコー）　　　　　　　　　　　　　　 (15:30-16:15)

17-97-559  高周波デバイス応用のための高誘電体薄膜キャパシタ技術

鈴木　利昌（太陽誘電（株））　　　　　　　　　　　　　 (16:15-17:00)

なお、今回は会場の都合により懇親会はありません。講演会終了後、お飲物をご用意しております（無料）。

　                                   今回担当幹事　真岩　宏司（湘南工科大学）