2013年8月22日
電子セラミック・プロセス研究会
会員各位
第143回 電子セラミック・プロセス研究会
電子セラミック・プロセス研究会
会長 林 卓
日時: 平成25年9月21日(土) 13:00より
場所: 堺化学工業株式会社 中央研究所 研究開発センター1階講堂
(大阪府堺市堺区戎島町5丁1番地、http://www.sakai-chem.co.jp/company/network.html)
アクセス:南海本線 堺駅下車、堺駅西口から徒歩5分(南海本線難波駅から堺駅まで、急行で約10分、南海本線関西空港駅から堺駅まで、急行で約35分です)
参加費 法人会員および学生:無料
上記以外 大学・公研:2,000円、企業:5,000円
評議員会(評議員、役員のみ) (12:00~13:00)
特集テーマ:「関西企業・学術界におけるセラミック材料開発とデバイス化」
座長:山本 孝(防衛大学校)
25-143-798 メタロイドプロセス法による電子デバイス製作の新展開 (13:00~13:45)
落合 博 (株式会社イオックス)
25-143-799 水熱法を用いた新規機能性LDHの合成 (13:45~14:30)
中平 敦 (大阪府立大学)
25-143-800 BaTiO3材料の結晶粒界の構造と酸素空孔トラッピング
-理論計算と分析の併用による原子レベル解析- (14:30~15:15)
尾山 貴司(株式会社村田製作所)
ブレイク (15:15~15:30)
座長:上山 竜祐(大研化学製造販売株式会社)
25-143-801 ESD保護用低電圧積層バリスタ (15:30~16:15)
古賀 英一(パナソニック株式会社)
25-143-802 ハウトフォーム事業部における材料開発の要点 (16:15~17:00)
内田 文生(富士化学株式会社)
引き続き17:30頃より、自由討論会(参加費 3,000円)をホテルアゴーラリージェンシー堺 2Fのレストラン「La Prima(ラプリマ)」にて行います。
多数の方の参加をお待ちしております。