2013年8月22日

電子セラミック・プロセス研究会
会員各位

第143回　電子セラミック・プロセス研究会

電子セラミック・プロセス研究会
会長 林 卓

日時： 平成25年9月21日（土）　13:00より

場所： 堺化学工業株式会社　中央研究所　研究開発センター１階講堂
（大阪府堺市堺区戎島町５丁１番地、http://www.sakai-chem.co.jp/company/network.html）

アクセス：南海本線　堺駅下車、堺駅西口から徒歩５分（南海本線難波駅から堺駅まで、急行で約１０分、南海本線関西空港駅から堺駅まで、急行で約３５分です）

参加費 法人会員および学生：無料
上記以外　大学・公研：2,000円、企業：5,000円

評議員会（評議員、役員のみ）         (12:00～13:00)

特集テーマ：「関西企業・学術界におけるセラミック材料開発とデバイス化」

座長：山本　孝（防衛大学校）

25-143-798     メタロイドプロセス法による電子デバイス製作の新展開  （13:00～13:45）
落合　博　（株式会社イオックス）

25-143-799     水熱法を用いた新規機能性LDHの合成                  （13:45～14:30）
中平　敦　（大阪府立大学）

25-143-800     BaTiO3材料の結晶粒界の構造と酸素空孔トラッピング
－理論計算と分析の併用による原子レベル解析－         （14:30～15:15）
尾山　貴司（株式会社村田製作所）

ブレイク                      （15:15～15:30）

座長：上山　竜祐（大研化学製造販売株式会社）
25-143-801     ESD保護用低電圧積層バリスタ                         （15:30～16:15）
古賀　英一（パナソニック株式会社）

25-143-802     ハウトフォーム事業部における材料開発の要点          （16:15～17:00）
内田　文生（富士化学株式会社）

引き続き17:30頃より、自由討論会（参加費　3,000円）をホテルアゴーラリージェンシー堺　2Fのレストラン「La Prima(ラプリマ)」にて行います。
多数の方の参加をお待ちしております。