平成23年3月9日


電子セラミック・プロセス研究会
会員各位


電子セラミック・プロセス研究会
会長  林 卓

131回電子セラミック・プロセス研究会プログラム

日時:平成23年4月9日(土)  13:00より
場所:横浜市技能文化会館8階大研修室(横浜市中区万代町2丁目4番地7)
http://gibun.jp/gibun/index.html

評議員会(評議員、役員のみ)                                                        (12:00-13:00)

特集テーマ;「薄膜デバイスの新材料展開」

座長:秋山 善一((株)リコー)

イントロダクトリートーク     秋山 善一((株)リコー)                             (13:00-13:05)
23-131-721  広がる薄膜トランジスタ技術とデバイス
木村 睦(龍谷大学)                                                                      (13:05-14:00)

23-131-722  太陽光発電と有機半導体材料
佐藤 佳晴(三菱化学(株))                                                            (14:00-14:55)

コーヒーブレイク                                                        (14:55-15:10)

23-131-723  酸化物トランジスタとその次世代ディスプレイ応用
雲見 日出也(キヤノン(株))                                                       (15:10-16:05)

23-131-724  フレキシブル・プリンタブルエレクトロニクス
関谷 毅(東京大学)                                                                   (16:05-17:00)

 

なお17:30より、沖縄料理「がちま家」(横浜市中区蓬莱町2-5-1:技能文化会館出て大通り公園の反対側)において自由討論会を開きます。
会費は2,500です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。

今回担当幹事  秋山 善一((株)リコー)
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