平成16年4月8日
電子セラミック・プロセス研究会
会員各位
電子セラミック・プロセス研究会
会長 坂野 久夫
第90回電子セラミック・プロセス研究会開催のお知らせ
日時 平成16年5月8日(土) 13:00 より
場所 湘南工科大学・東京キャンパス
東京都港区三田3-7-18 糸山タワー7階 (TEL 03-5441-8594)
評議員会(評議員、役員のみ) (12:00-13:00)
特集テーマ;「セラミックプロセシングの新展開」
座長:林 卓(湘南工科大学)
16-90-516 次世代FRAM用強誘電体材料の開発 (13:00-13:40)
塚田 峰春 ((株)富士通研究所)
16-90-517 ケミカルプロセスによる強誘電体薄膜低温作製へのアプローチ
—メモリデバイス用Bi4Ti3O12系薄膜を中心にー
坂本 渉 (名古屋大学) (13:40-14:20)
16-90-518 LiCuZnフェライトを用いた新しい積層コイル
直江 正幸 (KOA(株)) (14:20-15:00)
コーヒーブレイク (15:00-15:30)
座長:高田 雅介(長岡技術科学大学)
16-90-519 遠心力場を用いたセラミックスプロセス
杵鞭 義明(産業技術総合研究所) (15:30-16:10)
16-90-520 強磁場中コロイドプロセスによる配向セラミックスの作製
目 義雄(物質・材料研究機構) (16:10-16:50)
総会 (16:50-17:00)
なお17:00より、同ビル1階レストラン(イルフィーロ)において懇親会を開きます。会費は1000円です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。
今回担当幹事 林 卓 (湘南工科大学)