平成16年4月8日

電子セラミック・プロセス研究会

会員各位

                               電子セラミック・プロセス研究会

会長 坂野 久夫

 

90回電子セラミック・プロセス研究会開催のお知らせ

 

日時 平成16年5月8日(土) 13:00 より

場所 湘南工科大学・東京キャンパス

   東京都港区三田3-7-18 糸山タワー7階 (TEL 03-5441-8594)

 

評議員会(評議員、役員のみ)                                      (12:00-13:00)

 

                                

特集テーマ;「セラミックプロセシングの新展開」

 

座長:林  卓(湘南工科大学)

16-90-516  次世代FRAM用強誘電体材料の開発                    (13:00-13:40)

塚田 峰春 ((株)富士通研究所)

 

16-90-517        ケミカルプロセスによる強誘電体薄膜低温作製へのアプローチ

—メモリデバイス用Bi4Ti3O12系薄膜を中心にー

坂本 渉 (名古屋大学)                       (13:40-14:20)

16-90-518  LiCuZnフェライトを用いた新しい積層コイル

直江 正幸 (KOA(株))                   (14:20-15:00)

 

コーヒーブレイク                                                  (15:00-15:30)

 

座長:高田 雅介長岡技術科学大学

16-90-519  遠心力場を用いたセラミックスプロセス

(きね)(むち) 義明(産業技術総合研究所)            (15:30-16:10)

16-90-520  強磁場中コロイドプロセスによる配向セラミックスの作製

(さっか) 義雄(物質・材料研究機構)            (16:10-16:50)

総会                                                              (16:50-17:00)

 

 なお17:00より、同ビル1階レストラン(イルフィーロ)において懇親会を開きます。会費は1000です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。

                                       今回担当幹事 林  卓 湘南工科大学

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