平成16年4月8日

電子セラミック・プロセス研究会

会員各位

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　            電子セラミック・プロセス研究会

会長　坂野　久夫

第90回電子セラミック・プロセス研究会開催のお知らせ

日時　平成16年5月8日(土)　13:00 より

場所　湘南工科大学・東京キャンパス

　　　東京都港区三田3-7-18　糸山タワー7階 (TEL 03-5441-8594)

評議員会(評議員、役員のみ)                                      (12:00-13:00)

特集テーマ；「セラミックプロセシングの新展開」

座長：林　　卓（湘南工科大学）

16-90-516  次世代FRAM用強誘電体材料の開発　　　　                (13:00-13:40)

塚田　峰春　（（株）富士通研究所）

16-90-517        ケミカルプロセスによる強誘電体薄膜低温作製へのアプローチ

—メモリデバイス用Bi₄Ti₃O₁₂系薄膜を中心にー

坂本　渉　（名古屋大学）　　　　　　　　               (13:40-14:20)

16-90-518  LiCuZnフェライトを用いた新しい積層コイル

直江　正幸　（KOA（株））　　　　　　　　　　　        (14:20-15:00)

コーヒーブレイク                                                  (15:00-15:30)

座長：高田　雅介（長岡技術科学大学）

16-90-519  遠心力場を用いたセラミックスプロセス

杵(きね)鞭(むち)　義明（産業技術総合研究所）　　　　　　　　　　　 (15:30-16:10)

16-90-520  強磁場中コロイドプロセスによる配向セラミックスの作製

目(さっか)　義雄（物質・材料研究機構）　　　　　　　　　　　　(16:10-16:50)

総会                                                              (16:50-17:00)

　なお17:00より、同ビル1階レストラン（イルフィーロ）において懇親会を開きます。会費は1000円です。奮ってご参加いただき討論をお続け下さい。

　                                   　　　今回担当幹事　林　　卓 （湘南工科大学）