平成24年 11月5日

 

電子セラミック・プロセス研究会
会員各位


電子セラミック・プロセス研究会
会長 林 卓

第139回電子セラミック・プロセス研究会プログラム

 

日時:平成24年12月1日(土)13:00より
場所:上智大学 12号館203室(東京・四谷)
http://www.sophia.ac.jp/jpn/info/access/accessguide/access_yotsuya
http://www.sophia.ac.jp/jpn/info/access/map/map_yotsuya

参加費 法人会員、学生:無料
上記以外 大学・公研:2,000円、企業:5,000円

評議員会(評議員、役員のみ)                   (12:00-13:00)

特集テーマ:「磁石の技術動向」
近年、再生可能エネルギー創出と種々機械のエネルギー効率向上に、高性能な磁石が重要な役割を果たしています。一方で磁石については、資源の局在や安定供給など様々な問題が取り上げられます。本研究会においてもこれらに注目して見識を深め、磁石の今後について考えたく思います。

座長:人見 篤志(TDK(株))

24-139-766     NdFeB磁石の開発
松浦 裕(日立金属(株))                         (13:00-13:45)

24-139-767     DyフリーNdFeB熱間加工磁石の開発
服部 篤、入山 恭彦、日置 敬子(大同特殊鋼(株))  (13:45-14:30)

24-139-768     Sm-Fe-N系焼結磁石の開発
高木 健太(産業技術総合研究所)                    (14:30-15:15)

休憩                                 (15:15-15:25)

座長:眞岩 宏司(湘南工大)
24-139-769     高性能フェライト磁石の最新動向
皆地 良彦(TDK(株))                                    (15:25-16:10)

24-139-770     次世代の磁石を目指して
福永 博俊(長崎大学)                             (16:10-16:55)

 

引き続き17:20より、自由討論会(参加費 ¥3,000円)を上智大学・11号館第2会議室で行います。
多数の方の参加をお待ちしています。

139回担当幹事:人見 篤志(TDK(株))

 

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