平成24年 11月5日

電子セラミック・プロセス研究会
会員各位

電子セラミック・プロセス研究会
会長 林 卓

第139回電子セラミック・プロセス研究会プログラム

日時：平成２４年１２月１日（土）１３：００より
場所：上智大学　12号館203室（東京・四谷）
http://www.sophia.ac.jp/jpn/info/access/accessguide/access_yotsuya
http://www.sophia.ac.jp/jpn/info/access/map/map_yotsuya

参加費 法人会員、学生：無料
上記以外 大学・公研：2,000円、企業：5,000円

評議員会(評議員、役員のみ)                   (12:00-13:00)

特集テーマ：「磁石の技術動向」
近年、再生可能エネルギー創出と種々機械のエネルギー効率向上に、高性能な磁石が重要な役割を果たしています。一方で磁石については、資源の局在や安定供給など様々な問題が取り上げられます。本研究会においてもこれらに注目して見識を深め、磁石の今後について考えたく思います。

座長：人見　篤志（TDK（株））

24-139-766     NdFeB磁石の開発
松浦　裕（日立金属（株））                         (13:00-13:45)

24-139-767     DyフリーNdFeB熱間加工磁石の開発
服部　篤、入山　恭彦、日置　敬子（大同特殊鋼(株)）  (13:45-14:30)

24-139-768     Sm-Fe-N系焼結磁石の開発
高木　健太（産業技術総合研究所）                    (14:30-15:15)

休憩                                 (15:15-15:25)

座長：眞岩　宏司（湘南工大）
24-139-769     高性能フェライト磁石の最新動向
皆地　良彦（TDK（株））                                    (15:25-16:10)

24-139-770     次世代の磁石を目指して
福永　博俊（長崎大学）                             (16:10-16:55)

引き続き17:20より、自由討論会（参加費 ¥3,000円）を上智大学・11号館第2会議室で行います。
多数の方の参加をお待ちしています。

139回担当幹事：人見　篤志（TDK（株））